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钛靶材
钛铜复合方条
发布时间：2019/04/11 点击量：
靶材的主要性能要求
纯度
纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。
不过在实际应用中，对靶材的纯度要求也不尽相同。例如，随着微电子行业的迅速发展，硅片尺寸由6”, 8“发展到12”, 而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺要求，而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。
杂质含量
靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如，半导体工业用的纯铝及铝合金靶材，对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。
密度
为了减少靶材固体中的气孔，提高溅射薄膜的性能，通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率，还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。
品名：钛靶 牌号：TA1 产地：宝鸡
钛含量≥：99.8（%） 杂质含量：0.02（%） 重量：不等（kg/块）
牌号：TA0，TA1，TA2，TA3，TC4(Ti6AL4V)，GR1，GR2，GR3，GR5( Ti6AL4V)
钛圆靶 ：技术条件：符合GB/T2695-1996，ASTMB348-97
钛板靶 ：技术条件：符合GB/T3621-94，ASTM B265-93
用途：用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层，玻璃镀膜工业等
